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低硅沸石的中孔隙率的引入[发明专利]

来源:花图问答
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:低硅沸石的中孔隙率的引入专利类型:发明专利

发明人:李坤浩,哈维尔·加西亚-马丁内斯,迈克尔·G·比弗申请号:CN201380003810.6申请日:20130114公开号:CN103930369A公开日:20140716

摘要:本文公开了中孔X沸石和中孔A沸石及其制备方法。这类中孔沸石可以通过使原始沸石与酸和成中孔剂接触来制备。原始沸石的骨架硅比铝含量可以为约1至约2.5。另外,这类中孔沸石的直径为至的中孔总体积可以为至少0.05cc/g。

申请人:瑞弗科技有限公司

地址:美国马萨诸塞州

国籍:US

代理机构:北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司

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