专利名称:低硅沸石的中孔隙率的引入专利类型:发明专利
发明人:李坤浩,哈维尔·加西亚-马丁内斯,迈克尔·G·比弗申请号:CN201380003810.6申请日:20130114公开号:CN103930369A公开日:20140716
摘要:本文公开了中孔X沸石和中孔A沸石及其制备方法。这类中孔沸石可以通过使原始沸石与酸和成中孔剂接触来制备。原始沸石的骨架硅比铝含量可以为约1至约2.5。另外,这类中孔沸石的直径为至的中孔总体积可以为至少0.05cc/g。
申请人:瑞弗科技有限公司
地址:美国马萨诸塞州
国籍:US
代理机构:北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容
Copyright © 2019- huatuowenda.com 版权所有 湘ICP备2023022495号-1
违法及侵权请联系:TEL:199 1889 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com
本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务