一种超高双折射超低限制损耗光子晶体光纤[发明专利]

来源：花图问答

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专利名称：一种超高双折射超低限制损耗光子晶体光纤专利类型：发明专利发明人：安琳,郑铮,李铮申请号：CN200810172193.3申请日：20081114公开号：CN101464538A公开日：20090624

摘要：一种超高双折射超低限制损耗光子晶体光纤，横断面包括纤芯和包层。包层与普通光子晶体光纤一致，为包围纤芯的均匀分布着相同结构的空气孔的外围区域，所述空气孔在光纤基底材料(1)中呈周期性排列，尺寸为波长量级，每相邻的三个空气孔(2)单元构成一个正三角形。所述的纤芯由位于光纤端面中心部位的光纤基底材料(1)和疏松排列的呈矩形分布的四个小空气孔(3)共同构成。本发明通过改变纤芯结构，在一定范围内调整小空气孔(3)的椭圆率、尺寸及其矩形分布的长宽比可以引入超高的模式双折射，同时使所述光纤具有超低的限制损耗。本发明解决了现有光子晶体光纤技术中，高双折射特性、低限制损耗特性与低结构复杂度三者无法兼顾的问题。

申请人：北京航空航天大学

地址：100191 北京市海淀区学院路37号

国籍：CN

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