一种等离子体刻蚀系统的磁场发生装置[发明专利]

来源：花图问答

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种等离子体刻蚀系统的磁场发生装置专利类型：发明专利发明人：厉心宇

申请号：CN201511003002.7申请日：20151228公开号：CN105655223A公开日：20160608

摘要：本发明公开了一种等离子体刻蚀系统的磁场发生装置，包括至少四个超导线圈，分设于等离子体刻蚀系统的反应腔四周，超导线圈的两端并联设有交变电源和超导开关，形成超导控制回路，以每相邻两个超导线圈为一组构成两组励磁线圈组，通过交变电源向两组励磁线圈组周期性地分别通入大小变化的交变电流，产生不同强度的磁场，以在反应腔内形成旋转磁场，通过断开交变电源，并打开超导开关，使超导线圈回路中的电流得以维持以产生恒定的超导磁场；和传统线圈相比，具有重量更轻、体积更小、设备更简单、能耗更低、稳定性更好、工艺均匀性更高的优点，且无需定期校准，有利于设备维护。

申请人：上海集成电路研发中心有限公司

地址：201210 上海市浦东新区上海浦东张江高斯路497号

国籍：CN

代理机构：上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

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